《發(fā)酵工程》突出典型案例與理論教學相結(jié)合的特色，理念創(chuàng)新，實用性強。全書以發(fā)酵工程學科的“中游”工程技術(shù)為主線，內(nèi)容涵蓋發(fā)酵生產(chǎn)原料及預(yù)處理、微生物育種及細胞培養(yǎng)、微生物發(fā)酵動力學、發(fā)酵過程的管理及監(jiān)控、好氧發(fā)酵技術(shù)、厭氧發(fā)酵技術(shù)、發(fā)酵過程的優(yōu)化、發(fā)酵和分離的耦合技術(shù)及發(fā)酵工程節(jié)能減排。在重點介紹液態(tài)發(fā)酵技術(shù)的同時，也

《數(shù)字電視傳輸與組網(wǎng)技術(shù)》系統(tǒng)地介紹數(shù)字電視傳輸與組網(wǎng)技術(shù)的新理論、新技術(shù)、新標準、新成果，反映本領(lǐng)域的最新研究成果和發(fā)展趨勢。全書共分八章，內(nèi)容包括數(shù)字電視傳輸系統(tǒng)概述、數(shù)字電視傳輸?shù)男畔⑻幚砑夹g(shù)、數(shù)字電視信號調(diào)制和解調(diào)技術(shù)、數(shù)字電視地面廣播技術(shù)、數(shù)字電視衛(wèi)星傳輸、數(shù)字電視在光纖骨干網(wǎng)上傳輸、數(shù)字電視在HFC網(wǎng)上傳輸

現(xiàn)代光學測試技術(shù)研究領(lǐng)域包括光干涉技術(shù)、光衍射技術(shù)、光偏振技術(shù)、光全息技術(shù)、光掃描技術(shù)、光散斑技術(shù)、莫爾技術(shù)、光譜技術(shù)、光纖技術(shù)，等等。《現(xiàn)代光學測試技術(shù)》涉及內(nèi)容除基本光學測量技術(shù)外，主要以光干涉測試技術(shù)為主，介紹了各種光學量的測試原理及測試方法。全書共11章。第一、二章系統(tǒng)地介紹了現(xiàn)代光學測試技術(shù)的基本理論及其發(fā)展

羅永龍、方群主編的這本《C語言程序設(shè)計輔導(dǎo)及實驗指導(dǎo)書》是《C語言程序設(shè)計》配套的輔導(dǎo)與實驗教材，分為上、下兩篇。上篇為C語言程序設(shè)計輔導(dǎo)，主要介紹每章的重點與難點；下篇為C語言程序設(shè)計實驗，為每章配置1～2個實驗以供選擇。為便于讀者掌握書中的知識和操作，《C語言程序設(shè)計輔導(dǎo)及實驗指導(dǎo)書》還提供了精選習題與參考答案，供

本書是“機械學基礎(chǔ)”的配套教材，也是普通高等教育“十一五”國家級規(guī)劃教材。本書全部采用最新的國家標準，并適度引入了科學前沿的最新成果，以啟發(fā)學生思路。本書收集了機械儀器中的各種機構(gòu)及應(yīng)用舉例。附錄編入課程設(shè)計指導(dǎo)書的有關(guān)內(nèi)容及緊固件、軸承國家標準。本書可供高等院校的非機械類專業(yè)使用，也可供其他專業(yè)學生和工程技術(shù)人員參考

《電氣可編程控制原理與應(yīng)用（S7-200PLC）》選擇了西門子S7-200系列小型可編程控制器進行講述�！峨姎饪删幊炭刂圃�理與應(yīng)用（S7-200PLC）》共分11章，內(nèi)容根據(jù)教學的需要進行編排，兼顧實際工程應(yīng)用。第1、2章介紹常用低壓電器、電氣邏輯控制基礎(chǔ)知識和常見電器控制電路，作為可編程控制器的基礎(chǔ)知識；第3章是從常

《C語言程序設(shè)計》主要講述C語言的基本知識和程序設(shè)計的初步方法。全書共11章，其中第1章至第6章主要介紹C語言程序設(shè)計的基本概念、基本結(jié)構(gòu)及函數(shù)等；第7章至第11章主要介紹數(shù)組、指針、結(jié)構(gòu)體與共用體等復(fù)雜數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)。為便于讀者掌握書中的知識和操作，本書配有《C語言程序設(shè)計輔導(dǎo)及實驗指導(dǎo)書》，其中包含大量的操作實例和習題。

《材料疲勞理論與工程應(yīng)用》扼要介紹了疲勞斷裂的微觀機理，重點論述了材料疲勞失效的宏觀規(guī)律及其工程應(yīng)用。主要內(nèi)容包括宏觀力學模型的建立、基本疲勞公式的導(dǎo)出、應(yīng)變疲勞公式、應(yīng)力疲勞公式、疲勞裂紋起始壽命公式、疲勞裂紋擴展速率公式、特殊服役環(huán)境中的疲勞、疲勞試驗數(shù)據(jù)的統(tǒng)計分析、變幅載荷下的疲勞壽命、典型結(jié)構(gòu)件的壽命預(yù)測、疲勞

楊樹人、王宗昌、王兢編寫的這本《半導(dǎo)體材料(第3版)》是為大學本科與半導(dǎo)體相關(guān)的專業(yè)編寫的教材，介紹了主要半導(dǎo)體材料硅、砷化鎵等制備的基本原理和工藝，以及特性的控制等。全書共13章：第1章為硅和鍺的化學制備；第2章為區(qū)熔提純；第3章為晶體生長；第4章為硅、鍺晶體中的雜質(zhì)和缺陷；第5章為硅外延生長；第6章為Ⅲ-Ⅴ族化合物

本書以教育部高等學校工程圖學教學指導(dǎo)委員會2004年提出的“普通高等院校工程圖學課程教學基本要求”為依據(jù)，結(jié)合21世紀對高校人才培養(yǎng)的需求，在對工程圖學的教學本質(zhì)和功能再認識的基礎(chǔ)上，以培養(yǎng)學生綜合素質(zhì)及創(chuàng)新能力為出發(fā)點，結(jié)合編者多年教學經(jīng)驗、實踐經(jīng)驗和教改成果編寫而成。全書由教程、配套習題集組成。內(nèi)容包括機械圖樣的表