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磁控濺射制備氮化銅薄膜的結構與性能 
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磁控濺射是一種通用、成熟的薄膜制備工藝技術，其制備工藝可調劑參數(shù)較多，通過精細控制能夠實現(xiàn)對薄膜結構的有效調控�！洞趴貫R射制備氮化銅薄膜的結構與性能》研究了薄膜的工藝參數(shù)、薄膜結構與性能等之間的內在關系，探討了薄膜的電子輸運、光學帶隙、熱穩(wěn)定性的有關物理量的變化機制。全書結構合理，條理清晰，內容豐富新穎，可供相關工程技術人員參考使用。
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