本書主要介紹了軟釬焊中銅與錫之間的反應問題以及外部應力對焊料接頭可靠性的影響。全文共分為三部分:第一部分導論(第1章)為倒裝芯片焊接技術概述,主要介紹了倒裝芯片技術的重要性及目前存在的問題,還闡述了電子封裝技術的未來趨勢及焊料連接技術在電子封裝技術中的重要作用;第二部分(第2章-第7章)為金屬銅與金屬錫的反應問題,主要介紹了塊狀及薄膜狀樣品中互連界面處銅錫間的反應問題;第三部分(第8章-第12章)為外部應力對焊料接頭的可靠性的影響,主要介紹了焊料接頭中的電遷移和熱遷移現(xiàn)象、基本原理及對互連接頭造成的應力影響等等。
本書可為電子制造行業(yè)里從事焊料連接技術的工程師和科學家提供一個參考,同時本書也可作為高年級本科生及研究生學習電子封裝技術可靠性理論的參考教材。
杜經(jīng)寧( King-Ning Tu),男,博士,著名華人材料學者,現(xiàn)任美國加州大學洛杉磯分校材料科學與工程學系教授。曾在國際半導體生產(chǎn)巨頭IBM公司頂尖的華生研究中心工作長達25年。發(fā)表高水平學術論文400篇以上,總被引次數(shù)超過20800次,影響因子達77,其中單篇引用率超過100次的多達18篇,授權美國發(fā)明專利11項。
趙修臣,男,博士,副教授,任北京理工大學電子封裝技術專業(yè)責任教授兼教學主任,國防科技工業(yè)元器件封裝技術創(chuàng)新中心專家委員會委員。主要從事電子封裝材料與先進封裝技術、電子器件互連可靠性測試分析、微納材料制備及應用、新型合金研制等方面的研究,先后主持并參與完成了科工局基礎科研、國家科技支撐、總裝預研、總裝預研基金及航天創(chuàng)新基金等多項科研工作,在CHEM ENG J、J ALLOY COMPD、J COLLOID INTERF SCI、JPCC、RSC ADV、PCCP、JMSE、MSEA等國內外學術期刊發(fā)表學術論文八十余篇,獲批國家發(fā)明專利十余項,并于2018年獲得中國產(chǎn)學研合作創(chuàng)新成果二等獎1項。