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探尋專利質量提升的奧秘

探尋專利質量提升的奧秘

定  價:88 元

        

  • 作者:甘靜嫻、李思為
  • 出版時間:2025/7/10
  • ISBN:9787513097970
  • 出 版 社:知識產權出版社
  • 中圖法分類:G306 
  • 頁碼:300
  • 紙張:
  • 版次:1
  • 開本:16開
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本書在專利政策、研發(fā)行為雙元性及專利質量等相關理論研究的基礎上,綜合運用“結 構—行為—績效”和“刺激—機體—反應”分析框架,基于隱含狄利克雷分布、文本相似 度等大數據文本分析和挖掘方法、懲戒回歸分析方法等,研究專利政策、研發(fā)行為對企業(yè) 專利質量的影響機理。
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